硅片行業(yè)專用超聲波清洗技術(shù)特性及其原理
【超聲波清洗機http://www.4h777.com】在制備半導體材料的進程中，每一個進程都涉及到清洗，而清洗質(zhì)量直接影響到下一個工序，乃至影響到設(shè)備的產(chǎn)量和可靠性。因為ULSI集成的快速提高和降低設(shè)備的巨細,更嚴厲的要求芯片外表污漬,工藝要求提供的ULSI吸附在襯底片不超越500 /平方米* 0.12,小于1010原子金屬污染/平方厘米。每個工序的芯片生產(chǎn)，存在潛在的污染，都會導致缺點和設(shè)備毛病。因而，硅片的清洗引起了專業(yè)人員的留意。許多制造商前洗手辦法,這種辦法人為因素更重要的是,一方面,簡略碎片,經(jīng)濟下滑,另一方面清洗硅片外表清潔度差,污染嚴峻,使下一個工序,腐蝕進程的合格率較低。因而，硅片清潔技能招引了人們的重視，找到一種簡略有用的清潔辦法是重中之重。介紹一種超聲波清洗技能，其清洗效果顯著，是一種硅片清洗技能值得推行。
晶圓外表原子對化學鍵的筆直切開方向被損壞，構(gòu)成懸空，在自由場的外表鄰近構(gòu)成，特別是在鑄鐵磨上進行磨削，因而鐵離子污染更為嚴峻。與此同時,因為碳化硅磨料粒度較大,磨削后晶片層受損較大,懸架要害人群,極易吸附的雜質(zhì),如顆粒、有機雜質(zhì)、無機雜質(zhì)、金屬離子,如硅粉粉塵,形成磨削后硅——花等現(xiàn)象,運用藍色,黑色,磨不合格。硅片清洗是消除各種污染物,清掃清潔的目的程度直接決議ULSI的開展更高層次的集成,可靠性、收益率,它涉及高凈化環(huán)境、水、化學試劑和相應(yīng)的設(shè)備和相關(guān)技能,越來越多的困難,顯現(xiàn)了半導體職業(yè)的清洗進程的重要性。 超聲波洗機機，蘇州全自動超聲波清洗設(shè)備。蘇州超聲波清洗機。
- 上一篇：工業(yè)超聲波清洗機的四大優(yōu)勢 2018/3/21
- 下一篇：超聲波清洗機常見故障及解決方法 2018/3/21
